Silisyum karbürün önemli bir politipi olan 3C-SiC'nin gelişimi, yarı iletken malzeme biliminin sürekli ilerlemesini yansıtmaktadır. 1980'lerde Nishino ve ark. ilk olarak kimyasal buhar biriktirme (CVD)[1] kullanarak silikon bir substrat üzerinde 4 μm kalınlığında 3C-SiC film elde ederek 3C-SiC ince ......
Devamını okuTek kristalli silikon ve polikristalin silikonun her birinin kendine özgü avantajları ve uygulanabilir senaryoları vardır. Tek kristal silikon, mükemmel elektriksel ve mekanik özelliklerinden dolayı yüksek performanslı elektronik ürünler ve mikroelektronik için uygundur. Polikristalin silikon ise dü......
Devamını okuGofret hazırlama sürecinde iki temel bağlantı vardır: biri alt tabakanın hazırlanması, diğeri ise epitaksiyel sürecin uygulanmasıdır. Yarı iletken tek kristal malzemeden özenle yapılmış bir levha olan alt tabaka, yarı iletken cihazlar üretmek için bir temel olarak doğrudan levha üretim sürecine yerl......
Devamını okuSilikon malzeme, belirli yarı iletken elektriksel özelliklere ve fiziksel stabiliteye sahip katı bir malzemedir ve sonraki entegre devre üretim süreci için alt tabaka desteği sağlar. Silikon bazlı entegre devreler için önemli bir malzemedir. Dünyadaki yarı iletken cihazların %95'inden fazlası ve ent......
Devamını okuSilisyum karbür substrat, karbon ve silikon olmak üzere iki elementten oluşan bileşik yarı iletken tek kristal malzemedir. Geniş bant aralığı, yüksek termal iletkenlik, yüksek kritik bozulma alanı kuvveti ve yüksek elektron doygunluğu sürüklenme hızı özelliklerine sahiptir.
Devamını oku