ICP Dağlama Taşıyıcısını fabrikamızdan satın alacağınızdan emin olabilirsiniz; size en iyi satış sonrası hizmeti ve zamanında teslimatı sunacağız. Semicorex levha tutucusu, kimyasal buhar biriktirme (CVD) işlemi kullanılarak silikon karbür kaplı grafitten yapılmıştır. Bu malzeme, yüksek sıcaklık ve kimyasal direnç, mükemmel aşınma direnci, yüksek termal iletkenlik, yüksek mukavemet ve sertlik gibi benzersiz özelliklere sahiptir. Bu özellikler onu İndüktif Eşleşmiş Plazma (ICP) Dağlama sistemleri de dahil olmak üzere çeşitli yüksek sıcaklık uygulamaları için çekici bir malzeme haline getirmektedir.
Özelleştirilmiş hizmet sunuyoruz, daha uzun ömürlü bileşenlerle yenilik yapmanıza, çevrim sürelerini kısaltmanıza ve verimi artırmanıza yardımcı oluyoruz.
Semicorex SiC ICP Dağlama Diski yalnızca bileşenlerden ibaret değildir; yarı iletken endüstrisi, minyatürleştirme ve performans konusundaki aralıksız arayışını sürdürürken, SiC gibi gelişmiş malzemelere olan talep daha da yoğunlaşacaktır. Teknoloji odaklı dünyamıza güç sağlamak için gereken hassasiyeti, güvenilirliği ve performansı sağlar. Semicorex olarak biz, kaliteyi maliyet verimliliğiyle birleştiren yüksek performanslı SiC ICP Dağlama Diski üretmeye ve tedarik etmeye kendimizi adadık.**
Devamını okuTalep GönderICP Etch için Semicorex SiC Süseptör, yüksek kalite ve tutarlılık standartlarını korumaya odaklanılarak üretilmiştir. Bu tutucuları oluşturmak için kullanılan sağlam üretim süreçleri, her bir partinin sıkı performans kriterlerini karşılamasını ve yarı iletken gravürde güvenilir ve tutarlı sonuçlar sunmasını sağlar. Ek olarak Semicorex, yarı iletken endüstrisinin hızlı geri dönüş taleplerine ayak uydurmak ve kaliteden ödün vermeden üretim zaman çizelgelerinin karşılanmasını sağlamak için çok önemli olan hızlı teslimat programları sunacak donanıma sahiptir. Semicorex olarak kendimizi yüksek performanslı üretim ve tedarik etmeye adadık. ICP Etch için kaliteyi maliyet verimliliğiyle birleştiren SiC Süseptör.**
Devamını okuTalep GönderSemicorex'in SiC Kaplamalı ICP Bileşeni, epitaksi ve MOCVD gibi yüksek sıcaklıktaki levha işleme süreçleri için özel olarak tasarlanmıştır. İnce SiC kristal kaplamalı taşıyıcılarımız üstün ısı direnci, hatta termal homojenlik ve dayanıklı kimyasal direnç sağlar.
Devamını okuTalep GönderEpitaksi ve MOCVD gibi levha işleme süreçleri söz konusu olduğunda Semicorex'in Plazma Aşındırma Odaları için Yüksek Sıcaklık SiC Kaplaması en iyi seçimdir. Taşıyıcılarımız, ince SiC kristal kaplamamız sayesinde üstün ısı direnci, eşit termal homojenlik ve dayanıklı kimyasal direnç sağlar.
Devamını okuTalep GönderSemicorex'in ICP Plazma Dağlama Tepsisi, epitaksi ve MOCVD gibi yüksek sıcaklıktaki levha işleme işlemleri için özel olarak tasarlanmıştır. 1600°C'ye kadar stabil, yüksek sıcaklıkta oksidasyon direncine sahip taşıyıcılarımız, eşit termal profiller, laminer gaz akış modelleri sağlar ve kirlenmeyi veya yabancı maddelerin yayılmasını önler.
Devamını okuTalep GönderSemicorex'in ICP Plazma Aşındırma Sistemi için SiC Kaplamalı taşıyıcısı, epitaksi ve MOCVD gibi yüksek sıcaklıkta levha işleme süreçleri için güvenilir ve uygun maliyetli bir çözümdür. Taşıyıcılarımız üstün ısı direnci, hatta termal homojenlik ve dayanıklı kimyasal direnç sağlayan ince bir SiC kristal kaplamaya sahiptir.
Devamını okuTalep Gönder