Çin Gözenekli Grafit Üreticiler, Tedarikçiler, Fabrika

Günümüzde çoğu SiC substrat üreticisi, sıcak alan işlemi için gözenekli bir grafit silindiri içeren bir pota tasarımı kullanmaktadır. Proses, potanın derinleştirilmesi ve çapının arttırılması sırasında yüksek saflıkta SiC parçacıklarının grafit pota duvarı ile gözenekli grafit silindir arasına yerleştirilmesini içerir. Bu, besleme stoğunun buharlaşma alanını arttırırken aynı zamanda şarj hacmini de arttırır.

Yeni süreç, kaynak malzeme yüzeyi büyüdükçe ham maddenin üst kısmının yeniden kristalleşmesi nedeniyle ortaya çıkan ve süblimleştirilmiş malzemenin akışını etkileyen kristal kusurları sorununu çözüyor. Üstelik yeni süreç, ham madde alanının sıcaklık dağılımının kristal büyümesine olan hassasiyetini azaltır, kütle transfer verimliliğini stabilize eder, büyümenin son aşamasında karbon kalıntılarının etkisini azaltır ve SiC kristallerinin kalitesini daha da artırır. Ek olarak yeni proses, tohum kristallerine yapışmayan, böylece termal genleşmeyi serbest bırakan ve stresin hafifletilmesini kolaylaştıran çekirdeksiz kristal tepsisi sabitleme yöntemini benimser. Bu yeni süreç, termal alanı optimize eder ve genleşme verimliliğini büyük ölçüde artırır.

Bu yeni işlemle elde edilen SiC tek kristallerinin kalitesi ve veriminin büyük ölçüde pota grafiti ve gözenekli grafitin fiziksel özelliklerine bağlı olduğunu belirtmek önemlidir. Ancak pazardaki arz, artan talebe göre şu anda çok kısa.

Gözenekli Grafitin Temel Özellikleri:

Uygun gözenek boyutu dağılımı;

Yeterince yüksek gözeneklilik;

İşleme ve kullanım gereksinimlerini karşılamak için mekanik.

Semicorex, gereksinimlerinize göre özelleştirilmiş yüksek kaliteli gözenekli grafit ürünler sunar.