Çin CVD Fırını Üreticiler, Tedarikçiler, Fabrika

Kimyasal buhar biriktirme (CVD) işlemi için kullanılan CVD fırınları. Kimyasal buhar biriktirme, buharlaştırılmış öncü gazlar ve ısıtılmış bir yüzey arasındaki kimyasal reaksiyon kullanılarak bir alt tabaka üzerine ince bir filmin biriktirildiği bir işlemdir.

CVD fırınları tipik olarak bir vakum odası, bir gaz dağıtım sistemi, bir ısıtma sistemi ve bir substrat tutucudan oluşur. Vakum odası, kirliliklerin biriktirme işlemine müdahale etmesini önlemek için biriktirme ortamından hava ve diğer gazları uzaklaştırmak için kullanılır. Gaz dağıtım sistemi, öncü gazları, istenen ince filmi oluşturmak üzere reaksiyona girecekleri alt tabaka yüzeyine iletir. Isıtma sistemi, substratı reaksiyonun gerçekleşmesi için gerekli sıcaklığa kadar ısıtır. Alt tabaka tutucu, biriktirme işlemi sırasında alt tabakayı yerinde tutmak için kullanılır.

CVD işleminde, öncü gazlar vakum odasına verilir ve ayrıştıkları ve ısıtılmış alt tabaka üzerinde ince bir film oluşturmak üzere reaksiyona girdikleri bir sıcaklığa kadar ısıtılır. Biriktirme ortamının sıcaklığı ve basıncı, istenen film özelliklerinin elde edilmesini sağlamak için dikkatli bir şekilde kontrol edilir.

CVD fırınları, yarı iletken endüstrisinde, entegre devreler ve güneş pilleri gibi mikroelektronik cihazların imalatı için ince filmler biriktirmek için yaygın olarak kullanılmaktadır. Kaplamalar, optik fiberler ve süper iletkenler gibi gelişmiş malzemelerin üretiminde de kullanılırlar.