Çin CVD Fırını Üreticiler, Tedarikçiler, Fabrika

Kimyasal buhar biriktirme (CVD) işlemi için kullanılan CVD fırınları. Kimyasal buhar biriktirme, buharlaştırılmış öncü gazlar ile ısıtılmış bir yüzey arasındaki kimyasal reaksiyonu kullanarak bir altlık üzerine ince bir filmin biriktirildiği bir işlemdir.

CVD fırınları tipik olarak bir vakum odasından, bir gaz dağıtım sisteminden, bir ısıtma sisteminden ve bir alt tabaka tutucusundan oluşur. Vakum odası, yabancı maddelerin biriktirme işlemine müdahale etmesini önlemek için biriktirme ortamındaki havayı ve diğer gazları uzaklaştırmak için kullanılır. Gaz dağıtım sistemi öncü gazları substrat yüzeyine iletir ve burada istenen ince filmi oluşturmak üzere reaksiyona girer. Isıtma sistemi, reaksiyonun gerçekleşmesi için substratı gerekli sıcaklığa ısıtır. Alt tabaka tutucusu, biriktirme işlemi sırasında alt tabakayı yerinde tutmak için kullanılır.

CVD işleminde, öncü gazlar vakum odasına verilir ve ısıtılan alt tabaka üzerinde ince bir film oluşturacak şekilde ayrışıp reaksiyona girecekleri bir sıcaklığa kadar ısıtılır. İstenilen film özelliklerinin elde edilmesini sağlamak için biriktirme ortamının sıcaklığı ve basıncı dikkatle kontrol edilir.

CVD fırınları, yarı iletken endüstrisinde, entegre devreler ve güneş pilleri gibi mikroelektronik cihazların imalatında ince filmler biriktirmek amacıyla yaygın olarak kullanılmaktadır. Ayrıca kaplamalar, optik fiberler ve süper iletkenler gibi gelişmiş malzemelerin üretiminde de kullanılırlar.