- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Ürünler
- View as
SiC Kaplamalı ICP Bileşeni
Semicorex'in SiC Kaplamalı ICP Bileşeni, epitaksi ve MOCVD gibi yüksek sıcaklıktaki levha işleme süreçleri için özel olarak tasarlanmıştır. İnce SiC kristal kaplamalı taşıyıcılarımız üstün ısı direnci, hatta termal homojenlik ve dayanıklı kimyasal direnç sağlar.
Devamını okuTalep Gönder
Plazma Aşındırma Odaları için Yüksek Sıcaklık SiC Kaplama
Epitaksi ve MOCVD gibi levha işleme süreçleri söz konusu olduğunda Semicorex'in Plazma Aşındırma Odaları için Yüksek Sıcaklık SiC Kaplaması en iyi seçimdir. Taşıyıcılarımız, ince SiC kristal kaplamamız sayesinde üstün ısı direnci, eşit termal homojenlik ve dayanıklı kimyasal direnç sağlar.
Devamını okuTalep Gönder
ICP Plazma Dağlama Tepsisi
Semicorex'in ICP Plazma Dağlama Tepsisi, epitaksi ve MOCVD gibi yüksek sıcaklıktaki levha işleme işlemleri için özel olarak tasarlanmıştır. 1600°C'ye kadar stabil, yüksek sıcaklıkta oksidasyon direncine sahip taşıyıcılarımız, eşit termal profiller, laminer gaz akış modelleri sağlar ve kirlenmeyi veya yabancı maddelerin yayılmasını önler.
Devamını okuTalep Gönder
ICP Plazma Dağlama Sistemi
Semicorex'in ICP Plazma Aşındırma Sistemi için SiC Kaplamalı taşıyıcısı, epitaksi ve MOCVD gibi yüksek sıcaklıkta levha işleme süreçleri için güvenilir ve uygun maliyetli bir çözümdür. Taşıyıcılarımız üstün ısı direnci, hatta termal homojenlik ve dayanıklı kimyasal direnç sağlayan ince bir SiC kristal kaplamaya sahiptir.
Devamını okuTalep Gönder
İndüktif Eşleşmiş Plazma (ICP)
Semicorex'in İndüktif Eşleşmiş Plazma (ICP) için silikon karbür kaplamalı tutucusu, özellikle epitaksi ve MOCVD gibi yüksek sıcaklıkta levha işleme işlemleri için tasarlanmıştır. 1600°C'ye kadar stabil, yüksek sıcaklıkta oksidasyon direncine sahip taşıyıcılarımız, eşit termal profiller, laminer gaz akış modelleri sağlar ve kirlenme veya yabancı maddelerin yayılmasını önler.
Devamını okuTalep Gönder
ICP Gravür Gofret Tutucu
Semicorex'in ICP aşındırma levha tutucusu, epitaksi ve MOCVD gibi yüksek sıcaklıkta levha işleme süreçleri için mükemmel bir çözümdür. 1600°C'ye kadar stabil, yüksek sıcaklıkta oksidasyon direncine sahip taşıyıcılarımız, eşit termal profiller ve laminer gaz akış düzenleri sağlar ve kirlenme veya yabancı maddelerin yayılmasını önler.
Devamını okuTalep Gönder
