Semicorex sic kaplı gofret duyucuları, basınçsız koşullar altında ultra ince film birikimi için özel olarak tasarlanmış yüksek performanslı taşıyıcıdır. Gelişmiş malzeme mühendisliği, hassas gözeneklilik kontrolü ve sağlam SIC kaplama teknolojisi ile Semicorex, yeni nesil yarı iletken üretiminin gelişen ihtiyaçlarını karşılamak için endüstri lideri güvenilirlik ve özelleştirme sağlar.*
Semicorex SIC kaplı gofret duyucuları, özellikle basınçsız ultra ince film biriktirme sistemlerinde, gelişmiş yarı iletkenlerin üretimi için presleme gereksinimlerini karşılamak üzere tasarlanmıştır. Hassas tasarlanmış, ince film işleme için yeni nesil ortamlar için gerekli olan üstün termal performans, kimyasal dayanıklılık ve mekanik stabilite sunarlar.
Atomik tabaka birikimi (ALD), kimyasal buhar birikimi (CVD) ve çok ince filmler için fiziksel buhar birikimi (PVD) gibi basınç kullanmayan biriktirme tekniklerinde, ana gereksinimler muntazam bir sıcaklık dağılımı ve yüzey stabilitesidir. Sensör tasarımımızın benzersizliği, vakum veya varlıklı koşullar altında etkili bir şekilde çalışmasını sağlayan yüksek saflıkta gözenekli bir substrat içermesi ve böylece termal stresi azaltması ve gofret yüzeyi üzerinde düzgün enerji transferi sağlamasıdır.
Çok delikli yapı önemli bir yeniliktir: termal kütleyi azaltmaya yardımcı olur, gaz akışı dağılımını bile teşvik eder ve aksi takdirde biriktirme homojenliğini tehlikeye atabilecek basınç dalgalanmalarını azaltır. Bu yapı aynı zamanda daha hızlı termal rampa ve bekleme döngüsü döngülerine katkıda bulunarak genel verim ve proses kontrolünü artırır.
Çeşitli biriktirme sistemi tasarımlarına ve gofret boyutlarına uyacak bir dizi sisseptor boyutu, geometrisi ve gözeneklilik seviyeleri sunuyoruz. Üretim sürecimizin modüler doğası, özelleştirmenin müşterinin ince film sürecinin belirli termal, mekanik ve kimyasal gereksinimlerini karşılamasını sağlar.
Semicorex SIC kaplı gofret suyunu, basınçsız ultra ince film birikiminin benzersiz zorluklarına göre uyarlanmış yüksek performanslı bir çözümdür. Gözenekli yapısal tasarım ve sağlam SIC kaplama kombinasyonu, daha iyi film kalitesi, daha yüksek verim ve daha düşük operasyonel maliyetler sağlayan yüksek hassasiyetli yarı iletken üretim süreçleri için en uygun destek sağlar.