SiC Odak Halkası

Semicorex SiC Odak Halkası, yüksek saflıkta silisyum karbürden üretilen, hassas bir şekilde tasarlanmış, halka şeklinde bir bileşendir. SiC Odak Halkası, gelişmiş yarı iletken işleme uygulamaları için tasarlanmıştır. Yüksek saflıkta silisyum karbür, birçok yeni nesil levha üretim teknolojisinin spesifikasyonlarına uymak için kritik olan termal stabilite (yüksek erime noktası), mekanik dayanıklılık (yüksek sertlik) ve elektriksel iletkenlik özellikleri açısından mükemmel performans sağlar. SiC Odak Halkası, plazma aşındırma ve biriktirme odası bileşenlerinde bulunan bileşenlerdir ve plazma dağılımının kontrol edilmesinde, levha tekdüzeliğinin sağlanmasında ve seri üretimde verimde önemli bir rol oynar.

SiC Odak Halkasının malzeme saflığı ve elektriksel performansı, bu bileşeni tanımlayan ve onu seramik malzemelerden ayıran en kritik faktörlerden bazılarıdır. Yüksek saflıktasilisyum karbürbir kombinasyonunu sağladığı için geleneksel seramik malzemelerden farklıdır. 

sertliğinin yanı sıra birçok kimyasala karşı direnci ve benzersiz elektriksel özellikleri vardır. Özellikle, daha da önemlisi, yüksek saflıktaki silisyum karbür, plazma ile etkileşime girecek ideal yarı iletken dengesi ile en uygun iletkenlik veya hakaret performansı düzeylerini üretmek için katkı maddeleri ve işleme yöntemleri kullanılarak tasarlanabilir ve yük oluşumunun ve elektriksel dengesizliğin işlem hatalarına neden olma olasılığının daha yüksek olduğu yüksek enerjili ortamlarda istikrarlı performansa olanak tanır.

Plazmanın kenar etkisi nedeniyle yoğunluk merkezde daha yüksek, kenarlarda daha düşüktür. Odak halkası, halka şeklindeki şekli ve CVD SiC'nin malzeme özellikleri sayesinde belirli bir elektrik alanı üretir. Bu alan, plazmadaki yüklü parçacıkları (iyonlar ve elektronlar) levha yüzeyine, özellikle de kenarlara yönlendirir ve sınırlar. Bu, kenardaki plazma yoğunluğunu etkili bir şekilde yükselterek merkezdekine yaklaştırıyor. Bu, levha boyunca aşındırma homojenliğini önemli ölçüde artırır, kenar hasarını azaltır ve verimi artırır.

Mercury Manufacturing, SiC Odak Halkasını, sıkı boyut toleransları ve pürüzsüz yüzey kalitesi sağlayan gelişmiş işleme ve cilalama süreçlerinden yararlanarak işler. Bu bileşenlerin boyutsal doğruluğu, birçok plazma dağlama ve biriktirme sistemi arasında değiştirilebilirliği sağlamak için çeşitli yarı iletken ekipman tedarikçileriyle uyumluluğu mümkün kılar. Halka kalınlığı, iç ve dış çap ve yüzey iletkenlik seviyeleri dahil olmak üzere özel proses gereksinimlerini karşılamak için özel tasarımlar da geliştirilebilir.

SiC Odak Halkasının uygulamaları yarı iletken imalatında geniş bir yelpazeyi kapsamaktadır: DRAM, NAND flash, Logic cihazları ve yeni güç yarı iletken teknolojileri. Cihaz geometrileri küçüldükçe ve süreç düğümleri boyunca ilerlemeye devam ettikçe, SiC Odak Halkası gibi son derece güvenilir, stabil oda bileşenlerine duyulan ihtiyaç kritik hale geliyor. SiC Odak Halkası, plazmanın tam kontrolünü sağlar ve levha kalitesini sürekli olarak iyileştirerek endüstrinin daha küçük, daha hızlı ve verimli elektronik cihazlara yönelik hedeflerini daha da ileriye taşır. Semicorex SiC Focus Ring, malzeme bilimi, hassas mühendislik ve yarı iletken süreç evriminin kesişme noktasını tanımlar. SiC Odak Halkası mükemmel termal stabiliteye, üstün kimyasal dirence ve neredeyse spesifik elektrik iletkenliğine sahiptir. Bu özellikler onu süreçler sırasında güvenilirlik ve verim sağlamada kritik bir bileşen haline getirir.