Temizleme Tankı

Semicorex temizleme tankı, yüksek kaliteli kuvarstan üretilmiştir, benzersiz performans ve güvenilirlik sunarak yarı iletken levhaların tamamen temizlenmesini ve bütünlüklerini tehlikeye atabilecek her türlü kirletici maddeden arındırılmasını sağlar.

Olağanüstü kimyasal direnci ve termal kararlılığı nedeniyle temizleme tankının yapımında kuvars seçilmiştir. Kuvars temizleme tankı, hidroflorik asit ve diğer güçlü aşındırıcılar gibi temizleme işlemlerinde yaygın olarak kullanılan sert kimyasallara karşı dayanıklıdır. Termal stabilitesi, yarı iletken işlemede sıklıkla gerekli olan yüksek sıcaklıklara deforme olmadan veya bozulmadan dayanabilmesini, yapısal bütünlüğünü ve performansını uzun süre koruyabilmesini sağlar.

Temizleme tankının tasarımı, temizleme işlemini optimize etmek için titizlikle tasarlanmıştır. Pürüzsüz, kesintisiz iç kısmı parçacık oluşumunu en aza indirir ve kirletici maddelerin birikmesini önler. Temizleme tankı, kimyasal banyolar, ultrasonik temizleme ve megasonik temizleme dahil olmak üzere çeşitli temizleme yöntemlerini barındıracak şekilde tasarlanmıştır. Her yöntemin kendine özgü avantajları vardır ve temizleme tankının çok yönlülüğü, ilk plaka temizliğinden son durulama ve kurutmaya kadar temizleme işleminin birden fazla aşamasında kullanılmasına olanak tanır.

Kimyasal banyolarda temizleme tankı, levhaların temizleme solüsyonlarına eşit şekilde maruz kalmasını sağlayarak tutarlı ve kapsamlı temizliği teşvik eder. Tekdüze maruz kalma, parçacıklı maddenin, organik kalıntıların ve metalik kirletici maddelerin levha yüzeyinden uzaklaştırılmasında kritik öneme sahiptir. Ultrasonik ve megasonik temizlemede yüksek frekanslı ses dalgaları, temizleme solüsyonunda mikroskobik kavitasyon kabarcıkları oluşturur. Bu kabarcıklar çöktüğünde, kirleticileri levha yüzeyinden uzaklaştıran ve yerinden çıkaran güçlü şok dalgaları üretirler. Temizleme tankının sağlam kuvars yapısı, bu temizleme yöntemlerinin oluşturduğu yoğun koşullara dayanabilir ve uzun süreli dayanıklılık ve etkinlik sağlar.