CVD SiC Kaplamalı Fırın Boruları

Semicorex CVD SiC kaplıfırın tüpleriyarı iletken levhanın yüksek sıcaklıkta işlenmesi için stabil bir reaksiyon odası sağlayan geniş çaplı proses tüpleridir. Oksijen (reaktif gaz), nitrojen (koruyucu gaz) ve az miktarda hidrojen klorür içeren atmosferlerde, yaklaşık 1250 santigrat derecelik sabit bir çalışma sıcaklığıyla çalışacak şekilde yapılmıştır.

Semicorex CVD SiC kaplı fırın borularının avantajları

1. Gelişmiş kalıplama teknolojisi ve esnek kişiselleştirme üretimi

3D baskı teknolojisi ile oluşturulan SemicorexCVD SiCkaplamalı fırın tüpleri, herhangi bir zayıf alanı olmayan kesintisiz, entegre bir seramik yapıya sahiptir. Bu kalıplama teknolojisi, harici kirletici maddeleri etkili bir şekilde önleyen ve yarı iletken levha işleme için gerekli sıcaklık, basınç ve atmosferik ortamları koruyan olağanüstü gaz geçirmez contayı garanti eder.

Ayrıca 3D baskı teknolojisi karmaşık şekillerin üretimini ve hassas boyut kontrolünü de destekler. Müşterilerin dikey veya yatay fırınlarına tam uyumluluk sağlamak amacıyla çeşitli gereksinimlere göre çap, uzunluk, et kalınlığı ve toleranslarda özel üretim mevcuttur.

2. Titiz malzeme seçimi ve temizlik kontrolü

Semicorex CVD SiC kaplı fırın tüpleri özenle seçilmiş yarı iletken sınıfı yüksek saflıkta malzemeden üretilmiştir. Matrislerinin yabancı madde içeriği 300 PPM'nin altında kontrol edilir ve CVD SiC kaplamanın yabancı madde içeriği 5 PPM'den daha azıyla sınırlıdır. Bu sıkı saflık kontrolü, yüksek sıcaklıktaki çalışma koşulları altında çöken metal yabancı maddelerin neden olduğu levha kirliliğini önemli ölçüde azaltır, bu da son yarı iletken cihazların verimini ve performansını büyük ölçüde artırır. Ayrıca CVD SiC kaplamanın kullanılması, Semicorex CVD SiC kaplı fırın tüplerinin yüksek sıcaklık direncini, kimyasal korozyon direncini ve termal stabilitesini arttırır, böylece zorlu çalışma koşulları altında hizmet ömrünü büyük ölçüde uzatır.

Pek çok avantaja sahip olan Semicorex CVD SiC kaplı fırın tüpleri, yarı iletken levha işleme için stabil, uygun ve ultra temiz bir reaksiyon alanı sağlayabilmektedir. Semicorex CVD SiC kaplı fırın tüplerinin mümkün kıldığı fırınların içindeki tutarlı sıcaklık dağılımı ve sabit gaz atmosferi, daha doğru doping difüzyonu, termal oksidasyon, tavlama ve ince film biriktirme elde edilmesine yardımcı olur.