Gaz dağıtım plakaları

Semicorex gaz dağılım plakaları, özellikle hassasiyet, homojenlik ve kontaminasyon kontrolünün çok önemli olduğu yarı iletken üretiminde, gelişmiş plazma aşındırma sistemlerinde kritik bir rol oynar. Gaz dağılım plakamız, yüksek saflıkta kimyasal buhar birikimi silikon karbürden tasarlanmıştır (CVD sic), modern kuru dağlama işlemlerinin katı taleplerini karşılamak için tasarlanmıştır.

Yoklama işlemi sırasında, gofret yüzeyi boyunca tutarlı plazma dağılımı sağlamak için kontrollü ve eşit bir şekilde reaktif gazlar eklenmelidir. Gaz dağıtım plakaları stratejik olarak gofretin üzerinde bulunur ve çift bir işlev sunar: önce işlem gazlarını önceden dağıtır ve daha sonra bunları elektrot sistemine doğru bir dizi ince ayarlanmış kanal ve açıklıktan yönlendirir. Bu hassas gaz iletimi, tüm gofret boyunca düzgün plazma özellikleri ve tutarlı aşındırma oranları elde etmek için gereklidir.

Reaktif gazın enjeksiyon yöntemini optimize ederek dağlama homojenliği daha da geliştirilebilir:

• Alüminyum dağlama odası: Reaktif gaz genellikle gofretin üzerinde bulunan bir duş başlığından verilir.

• Silikon aşındırma odası: Başlangıçta, gaz gofretin çevresinden enjekte edildi ve daha sonra gravür homojenliğini iyileştirmek için gofretin merkezinden enjekte edilecek şekilde yavaş yavaş gelişti.

Duş başlıkları olarak da bilinen gaz dağıtım plakaları, yarı iletken üretim süreçlerinde yaygın olarak kullanılan bir gaz dağıtım cihazıdır. Temel olarak, reaksiyon işlemi sırasında yarı iletken malzemelerin gaz ile eşit olarak temas edebilmesini ve üretim verimliliğini ve ürün kalitesini artırmasını sağlamak için reaksiyon odasına gazı eşit olarak dağıtmak için kullanılır. Ürün, yüksek hassasiyet, yüksek temizlik ve çok kompozit yüzey işleminin özelliklerine sahiptir (kumlama/eloksal/fırça nikel kaplama/elektrolitik parlatma vb.). Gaz dağılım plakaları reaksiyon odasında bulunur ve gofret reaksiyon ortamı için eşit olarak biriken bir gaz filmi katmanı sağlar. Gofret üretiminin temel bir bileşenidir.

Gofret reaksiyon işlemi sırasında, gaz dağılım plakalarının yüzeyi yoğun bir şekilde mikroporlarla (açıklık 0.2-6 mm) kaplanır. Tam olarak tasarlanmış gözenek yapısı ve gaz yolu aracılığıyla, özel işlem gazının düzgün gaz plakası üzerindeki binlerce küçük delikten geçmesi ve daha sonra gofret yüzeyine eşit olarak birikmesi gerekir. Filmin farklı alanlarındaki katmanların yüksek homojenlik ve tutarlılık sağlaması gerekir. Bu nedenle, temizlik ve korozyon direnci için son derece yüksek gereksinimlere ek olarak, gaz dağılım plakaları, tek tip gaz plakası üzerindeki küçük deliklerin açıklığı ve küçük deliklerin iç duvarındaki çapaklar üzerinde katı gereksinimlere sahiptir. Diyafram boyutu toleransı ve tutarlılık standart sapması çok büyükse veya herhangi bir iç duvarda çapak varsa, biriken film katmanının kalınlığı tutarsız olacaktır, bu da ekipman işlemi verimini doğrudan etkileyecektir. Plazma destekli süreçlerde (PECVD ve kuru dağlama gibi), duş başlığı, elektrotun bir parçası olarak, plazmanın düzgün dağılımını teşvik etmek için bir RF güç kaynağı yoluyla düzgün bir elektrik alanı üretir, böylece aşındırma veya biriktirme homojenliğini artırır.

BizimCVD sicGaz dağılım plakaları, yarı iletken imalat, MEMS işleme ve gelişmiş ambalajlarda kullanılan çok çeşitli plazma aşınma platformları için uygundur. Boyutlar, delik desenleri ve yüzey kaplamaları dahil olmak üzere belirli araç gereksinimlerini karşılamak için özel tasarımlar geliştirilebilir.

CVD SIC'den yapılmış Semicorex Gaz Dağıtım Plakaları, modern plazma gravür sistemlerinde hayati bir bileşendir, olağanüstü gaz dağıtım performansı, olağanüstü malzeme dayanıklılığı ve minimal kontaminasyon riski sunar. Kullanımı doğrudan daha yüksek işlem verimlerine, daha düşük kusurlara ve daha uzun takım çalışma süresine katkıda bulunur, bu da onu önde gelen yarı iletken üretimi için güvenilir bir seçimdir.