Aşındırma veya aşındırma, yarı iletken üretiminde, mikroelektronik entegre devre üretiminde ve mikro/nano üretim süreçlerinde çok önemli bir adımdır. Bu, fotolitografi ile ilişkili birincil bir modelleme sürecidir. Dar anlamda, aşındırma aslında fotolitografik aşındırmadır; burada fotorezist ilk önc......
Devamını okuSilikon nitrür (Si₃N₄), yüksek termal iletkenliğe ve olağanüstü mekanik özelliklere sahip, yaklaşık 320 W/(m·K) içsel termal iletkenliğe sahip yapısal bir seramik malzemedir. Ortam sıcaklığındaki üstün stabilitesi sayesinde Si₃N₄, modern yarı iletken endüstrisi için yaygın olarak benimsenen bir sera......
Devamını okuÜst düzey yarı iletken cihaz imalatında SiO₂ filmleri tipik olarak substrat yüzey işlemine yönelik oksidasyon işlemleri yoluyla oluşturulur ve bunların yaygın uygulamaları arasında katkı bariyer katmanları, yüzey yalıtım katmanları, geçit oksit katmanları, alan oksitler ve kurban oksitler bulunur. P......
Devamını okuTeknolojinin ilerlemesiyle birlikte cep telefonu, bilgisayar, elektrikli araç, robot gibi akıllı ürünler insanların hayatına entegre olmaya başladı. Bu ürünler çok sayıda yarı iletken çip içerir ve çip üretimi, aşındırma makineleri, litografi makineleri ve iyon implanterleri gibi yarı iletken ekipma......
Devamını okuYüksek dirençli silikon levhalar (HR-Si), adından da anlaşılacağı gibi, son derece yüksek dirençli, monokristalin bir silikon malzemedir. Gelişmiş yarı iletken üretim alanında, yüksek frekans kaybı, üst düzey çip tasarımında büyük bir zorluk haline geldi. Ultra yüksek direnci sayesinde, yüksek diren......
Devamını okuTelafi halkası veya sınırlama halkası olarak da adlandırılan odak halkası, aşındırma ekipmanının, özellikle de plazma kuru aşındırma ekipmanının vazgeçilmez bir bileşenidir. Modern yarı iletken üretiminde nano ölçekli hassas gravür işlemleri bu olmadan gerçekleştirilemezdi. Odaklama halkasının kulla......
Devamını oku