Ürünler

View as

ICP Plazma Dağlama Tepsisi

Semicorex'in ICP Plazma Dağlama Tepsisi, epitaksi ve MOCVD gibi yüksek sıcaklıktaki levha işleme işlemleri için özel olarak tasarlanmıştır. 1600°C'ye kadar stabil, yüksek sıcaklıkta oksidasyon direncine sahip taşıyıcılarımız, eşit termal profiller, laminer gaz akış modelleri sağlar ve kirlenmeyi veya yabancı maddelerin yayılmasını önler.

Devamını oku Talep Gönder

ICP Plazma Dağlama Sistemi

Semicorex'in ICP Plazma Aşındırma Sistemi için SiC Kaplamalı taşıyıcısı, epitaksi ve MOCVD gibi yüksek sıcaklıkta levha işleme süreçleri için güvenilir ve uygun maliyetli bir çözümdür. Taşıyıcılarımız üstün ısı direnci, hatta termal homojenlik ve dayanıklı kimyasal direnç sağlayan ince bir SiC kristal kaplamaya sahiptir.

Devamını oku Talep Gönder

İndüktif Eşleşmiş Plazma (ICP)

Semicorex'in İndüktif Eşleşmiş Plazma (ICP) için silikon karbür kaplamalı tutucusu, özellikle epitaksi ve MOCVD gibi yüksek sıcaklıkta levha işleme işlemleri için tasarlanmıştır. 1600°C'ye kadar stabil, yüksek sıcaklıkta oksidasyon direncine sahip taşıyıcılarımız, eşit termal profiller, laminer gaz akış modelleri sağlar ve kirlenme veya yabancı maddelerin yayılmasını önler.

Devamını oku Talep Gönder

ICP Gravür Gofret Tutucu

Semicorex'in ICP aşındırma levha tutucusu, epitaksi ve MOCVD gibi yüksek sıcaklıkta levha işleme süreçleri için mükemmel bir çözümdür. 1600°C'ye kadar stabil, yüksek sıcaklıkta oksidasyon direncine sahip taşıyıcılarımız, eşit termal profiller ve laminer gaz akış düzenleri sağlar ve kirlenme veya yabancı maddelerin yayılmasını önler.

Devamını oku Talep Gönder

ICP Dağlama Taşıyıcı Plaka

Semicorex'in ICP Dağlama Taşıyıcı Plakası, zorlu levha işleme ve ince film biriktirme işlemleri için mükemmel çözümdür. Ürünümüz üstün ısı ve korozyon direnci, hatta termal tekdüzelik ve laminer gaz akış modelleri sağlar. Temiz ve pürüzsüz bir yüzeye sahip taşıyıcımız, bozulmamış gofretlerin taşınması için mükemmeldir.

Devamını oku Talep Gönder

ICP Dağlama Prosesi için Gofret Tutucu

Semicorex'in ICP Aşındırma Prosesi için Wafer Tutucusu, zorlu wafer işleme ve ince film biriktirme prosesleri için mükemmel seçimdir. Ürünümüz, tutarlı ve güvenilir sonuçlar için üstün ısı ve korozyon direncine, hatta termal tekdüzeliğe ve optimum laminer gaz akış modellerine sahiptir.

Devamını oku Talep Gönder

<...58 59 60 61 62...67 >