SiC ALD Reseptörü

Semicorex SiC ALD Süseptör, ALD proseslerinde yüksek sıcaklık stabilitesi, geliştirilmiş film bütünlüğü ve kalitesi, geliştirilmiş proses verimliliği ve uzatılmış süseptör ömrü dahil olmak üzere çok sayıda avantaj sunar. Bu avantajlar, SiC ALD Süseptörünü çeşitli zorlu uygulamalarda yüksek performanslı ince filmler elde etmek için değerli bir araç haline getirir.**

Talep Gönder

Ürün Açıklaması

Semicorex'in FaydalarıSiC ALD Reseptörü:

Yüksek sıcaklık stabilitesi:SiC ALD Süseptör, yapısal bütünlüğünü yüksek sıcaklıklarda (1600°C'ye kadar) koruyarak, gelişmiş elektriksel özelliklere sahip daha yoğun filmlerle sonuçlanan yüksek sıcaklıkta ALD işlemlerini mümkün kılar.

Kimyasal inertlik:SiC ALD Süseptör, ALD'de kullanılan çok çeşitli kimyasallara ve öncüllere karşı mükemmel direnç göstererek kirlenme risklerini en aza indirir ve tutarlı film kalitesi sağlar.

Düzgün sıcaklık dağılımı:SiC ALD Süseptörünün yüksek termal iletkenliği, suseptör yüzeyi boyunca eşit sıcaklık dağılımını teşvik ederek, eşit film birikmesine ve gelişmiş cihaz performansına yol açar.

Düşük Gaz Çıkışı:SiC'nin gaz giderme özellikleri düşüktür, bu da yüksek sıcaklıklarda minimum miktarda yabancı madde saldığı anlamına gelir. Bu, temiz bir işleme ortamı sağlamak ve biriktirilen filmin kirlenmesini önlemek için çok önemlidir.

Plazma Direnci:SiC, plazma aşındırmaya karşı iyi bir direnç göstererek onu plazmayla geliştirilmiş ALD (PEALD) işlemleriyle uyumlu hale getirir.

Uzun ömür:SiC ALD Reseptörü'un dayanıklılığı ve aşınma ve yıpranmaya karşı direnci, suseptör için daha uzun bir kullanım ömrü anlamına gelir, sık değiştirme ihtiyacını azaltır ve genel işletme maliyetlerini düşürür.

ALD ve CVD'nin karşılaştırılması:

Atomik Katman Biriktirme (ALD) ve Kimyasal Buhar Biriktirme (CVD), farklı özelliklere sahip, yaygın olarak kullanılan ince film biriktirme teknikleridir. Farklılıklarını anlamak, belirli bir uygulama için en uygun yöntemin seçilmesi açısından çok önemlidir.

ALD ve CVD

ALD'nin Temel Avantajları:

Olağanüstü Kalınlık Kontrolü ve Tekdüzelik:Karmaşık geometrilerde atomik düzeyde hassasiyet ve uyumlu kaplamalar gerektiren uygulamalar için idealdir.

Düşük Sıcaklıkta İşleme:Sıcaklığa duyarlı yüzeylerde biriktirmeyi ve daha geniş bir malzeme seçimini mümkün kılar.

Yüksek Film Kalitesi:Düşük safsızlıklara sahip, yoğun, iğne deliği olmayan filmler elde edilir.

CVD'nin Temel Avantajları:

Daha Yüksek Biriktirme Oranı:Daha hızlı biriktirme oranları ve daha kalın filmler gerektiren uygulamalar için uygundur.

Daha Düşük Maliyet:Geniş alanlı kaplama ve daha az zorlu uygulamalar için daha uygun maliyetli.

Çok yönlülük:Metaller, yarı iletkenler ve yalıtkanlar dahil olmak üzere çok çeşitli malzemeleri biriktirebilir.