SiC Kaplamalı Epitaksi Diski

Semicorex SiC Kaplamalı Epitaksi Diski, yarı iletken endüstrisinde aşağıdaki gibi daha ayrıntılı olarak ele alınabilecek bir dizi benzersiz avantaja sahiptir:

Düşük Termal Genleşme Katsayısı: SiC Kaplamalı Epitaksi Disk, boyutsal stabilitenin gerekli olduğu yarı iletken işlemede kritik önem taşıyan oldukça düşük bir termal genleşme katsayısına sahiptir. Bu özellik, SiC Kaplamalı Epitaksi Diskin sıcaklık değişimleri altında minimum genleşme veya büzülmeye maruz kalmasını sağlayarak, yüksek sıcaklıktaki işlemler sırasında yarı iletken yapının bütünlüğünü korur.

Yüksek Sıcaklıkta Oksidasyon Direnci: Olağanüstü oksidasyon direnciyle tasarlanan bu SiC Kaplamalı Epitaksi Disk, yapısal bütünlüğünü yüksek sıcaklıklarda korur, bu da onu termal stabilitenin çok önemli olduğu yüksek sıcaklıklı yarı iletken proseslerdeki uygulamalar için ideal bir bileşen haline getirir.

Yoğun ve İnce Gözenekli Yüzey: SiC Kaplamalı Epitaksi Diskin yüzeyi, çeşitli kaplamaların yapıştırılması için en uygun yüzey dokusunu sağlayan ve yarı iletken levha işleme sırasında hassas yüzeye zarar vermeden etkili malzeme çıkarılmasını sağlayan yoğunluğu ve ince gözenekliliği ile karakterize edilir.

Yüksek Sertlik: Kaplama, çizilmeye ve aşınmaya karşı dayanıklı olan grafit diske yüksek düzeyde sertlik kazandırır, böylece SiC Kaplamalı Epitaksi Diskin hizmet ömrünü uzatır ve yarı iletken üretim ortamlarında değiştirme sıklığını azaltır.

Asitlere, Bazlara, Tuzlara ve Organik Reaktiflere Karşı Direnç: SiC Kaplamalı Epitaksi Diskin CVD SiC kaplaması, asitler, bazlar, tuzlar ve organik reaktifler dahil olmak üzere çok çeşitli aşındırıcı maddelere karşı mükemmel direnç sunarak onu aşağıdaki ortamlarda kullanıma uygun hale getirir: Kimyasallara maruz kalma endişe vericidir, dolayısıyla ekipmanın güvenilirliğini ve ömrünü artırır.

Beta-SiC Yüzey Katmanı: SiC Kaplamalı Epitaksi Diskin SIC (Silikon Karbür) yüzey katmanı, yüz merkezli kübik (FCC) kristal yapıya sahip beta-SiC'den oluşur. Bu kristal yapı, kaplamanın olağanüstü mekanik ve termal özelliklerine katkıda bulunarak, yarı iletken işleme ekipmanı için gerekli olan diske üstün güç ve termal iletkenlik sunar.