SIC kaplı plaka

Semicorex SIC kaplı plaka, yüksek kaliteli filmler oluşturmak için stabil, yüksek saflıkta substratlar gerektiren epitaksiyal (EPI) büyüme ekipmanı için özel olarak tasarlanmış tasarlanmış yüksek performanslı bir bileşendir. SIC'nin kimyasal stabilitesi ve yüzey dayanıklılığı ile birlikte yüksek mukavemetli grafitin eşsiz termal ve mekanik özdirençini sağlayan, silikon karbür (sic) ile eşit ve yoğun bir şekilde kaplanmış yüksek mukavemetli bir grafit çekirdeğidir. Semicorex SIC kaplamalı plaka, SIC ve GAN dahil bileşik yarı iletkenler için epitaksiyal süreçlerin aşırı zorluklarını sürdürmek için üretilmiştir.

SIC kaplamalı plakanın grafit çekirdeği olağanüstü termal iletkenlik, düşük yoğunluk ve üstün termal şok direncine sahiptir. Mükemmel termal iletkenlik ile dengelenmiş grafit çekirdeğinin orta derecede düşük termal kütlesi, sıcaklık döngülerinin yüksek hızlarda gerçekleştiği bir işlemde ısının hızlı bir şekilde eşit olarak dağılımına izin verir. Kimyasal buhar birikimi (CVD) ile biriktirilen dış SIC tabakası, sertliği, korozyon direncini ve kimyasal inertliği artıran koruyucu bir bariyer sunar ve parçacık oluşumunu sınırlamada veya önlemede anında değer sağlar. Bu katı elemental yüzey, grafit tabanının fiziksel özellikleri ile birleştiğinde, epitaksiyal katmanlarda kusur üretimi riski çok az veya hiç riski olmayan çok yüksek bir saflık işlem ortamı sağlar.

Boyutsal hassasiyet ve yüzey düzlüğü de SIC kaplı plakanın temel özellikleridir. Her plaka işlenir ve işlem performansında tekdüzelik ve tekrarlanabilirlik sağlamak için sıkı toleranslarla kaplanmıştır. Pürüzsüz ve inert yüzey, istenmeyen film birikimi için çekirdeklenme yerlerini azaltır ve plaka yüzeyi boyunca gofret homojenliğini artırır.

Epitaksiyal reaktörlerde, SIC kaplamalı plaka tipik olarak işlenen gofret için bir ısı transfer ortamı olarak yapı vermek ve gerçekleştirmek için bir duyucu, astar veya bir termal kalkan olarak uygulanır. Kararlı performans, kristal kalitesini, verimi ve üretkenliği doğrudan etkileyecektir.