SiC Kaplamalı Destek Halkası

Semicorex SiC Kaplamalı Destek Halkası, yarı iletken plakalar üzerine biriktirilen epitaksiyel katmanların hassasiyetini ve kalitesini sağlamada kritik bir rol oynar.

SiC kaplı destek halkası, epitaksiyel büyüme reaktörlerinde tipik olan aşırı sıcaklıklara ve aşındırıcı ortamlara dayanabilen sağlam bir koruyucu katman sağlar. SiC'nin üstün termal özellikleri, levha yüzeyi boyunca eşit sıcaklık dağılımı sağlayarak termal değişimleri ve gerilimleri en aza indirir. Bu stabilite, minimum kusurla yüksek kaliteli epitaksiyel katmanlar elde etmek için çok önemlidir.

SiC kaplı destek halkası, epitaksiyel proseste kullanılan reaktif gazların kimyasal saldırılarına karşı direnç göstererek destek halkasının çalışma ömrünü uzatır ve proses bütünlüğünü korur. Bu direnç, kirlenme risklerini azaltarak yarı iletken cihazların daha yüksek saflığa ve daha iyi performansa sahip olmasına katkıda bulunur.

SiC Kaplamalı Destek Halkası, düzgün katman birikimi için kritik olan hassas levha konumlandırmasını korur. SiC kaplı destek halkasının yüksek sıcaklık koşulları altındaki yapısal bütünlüğü, birden fazla işlem döngüsü boyunca tutarlı performans sağlar.

Semicorex SiC Kaplamalı Destek Halkası, ilerleyen yarı iletken teknolojisinde önemli bir bileşen olup, optimum performans ve güvenilirliğe sahip yüksek kaliteli cihazların üretimini sağlar.