Katı Silisyum Karbür Odaklama Halkası

Semicorex Katı Silisyum Karbür Odaklama Halkası, yarı iletken üretiminde çok önemli bir bileşendir ve doğrudan teması sürdürmek için levhanın dışına stratejik olarak konumlandırılmıştır. Uygulanan bir voltajı kullanarak bu halka, içinden geçen plazmayı odaklar, böylece levha üzerindeki işlem homojenliğini arttırır. Yalnızca Kimyasal Buhar Biriktirmeli Silisyum Karbürden (CVD SiC) üretilen bu odak halkası, yarı iletken endüstrisinin talep ettiği olağanüstü nitelikleri bünyesinde barındırır. Semicorex olarak biz, kaliteyi maliyet verimliliğiyle birleştiren yüksek performanslı Katı Silisyum Karbür Odaklama Halkası üretmeye ve tedarik etmeye kendimizi adadık.

Talep Gönder

Ürün Açıklaması

Yarı iletken üretiminde Semicorex Katı Silisyum Karbür Odaklama Halkası, bir kalkan görevi görerek, aşındırma işlemi sırasında levhanın bütünlüğünü koruyarak çok önemli bir rol oynar. Titizlikle tasarlanmış tasarımı hassas ve düzgün dağlama sağlar, böylece üstün performans ve güvenilirlik sergileyen son derece karmaşık yarı iletken elemanların üretimini kolaylaştırır.

Silikon karbür, vakum reaksiyon odasında plazmaya maruz kaldığında plazma korozyonuna karşı üstün direnci nedeniyle odaklama halkası için tercih edilen malzemedir. Katı Silisyum Karbür Odaklama Halkası, aşağıdakiler de dahil olmak üzere çeşitli yönlerden geleneksel silikondan daha iyi performans gösterir:

(1) Aşındırma oranlarını en aza indiren yüksek yoğunluk.

(2) Üstün bant aralığı ve mükemmel yalıtım özellikleri.

(3) Olağanüstü termal iletkenlik, düşük termal genleşme katsayısı ve termal şok direnci.

(4) Yüksek elastikiyet ve mekanik darbelere karşı mükemmel direnç.

(5) Olağanüstü sertlik, aşınma direnci ve korozyon direnci.

Silisyum karbürün iletkenliği ve iyon aşındırmaya karşı direnci silikona benzer, bu da Katı Silisyum Karbür Odaklama Halkasını bu uygulama için ideal bir malzeme haline getirir.

Semicorex Katı Silisyum Karbür Odaklama Halkası, yarı iletken üretimi alanında son teknoloji ürünü bir çözüm olarak duruyor. Güvenilir, yüksek performanslı aşındırma süreçlerini kolaylaştırmak için CVD SiC'nin benzersiz özelliklerinden yararlanır ve yarı iletken teknolojisinin ilerlemesine önemli ölçüde katkıda bulunur.