TaC Kaplamalı Gofret Süseptör

Semicorex TaC Kaplamalı Gofret Tutucu, yarı iletken epitaksiyel (epi) işleme için Metal-Organik Kimyasal Buhar Biriktirme (MOCVD) fırınlarında kullanılan çok önemli bir bileşendir. Bu özel yuvarlak tutucu, yüksek kaliteli grafit malzemeden üretilmiştir ve benzersiz bir Tantal Karbür (TaC) kaplamaya sahiptir.

TaC kaplamanın temel amacı, yarı iletken üretim süreçlerinin zorlu koşulları sırasında TaC Kaplamalı Gofret Süseptörünün performansını ve dayanıklılığını arttırmaktır. Tantal Karbür olağanüstü sertliği, yüksek erime noktası ve aşınma ve korozyona karşı direnci ile bilinir. Bu özellikler, TaC Kaplamalı Gofret Süseptörünü, altta yatan grafit suseptörünü MOCVD fırını içinde meydana gelen kimyasal reaksiyonlardan ve fiziksel streslerden korumak için ideal bir seçim haline getirir.

TaC Kaplamalı Gofret Süseptör, ince filmlerin plakalar üzerinde birikmesini kolaylaştırarak yarı iletken malzemelerin epitaksiyel büyümesinde hayati bir rol oynar. Yüksek sıcaklıklara ve zorlu kimyasal ortamlara dayanma yeteneği, hassas ve güvenilir yarı iletken cihaz üretimine ulaşmak için çok önemlidir.

Grafit çekirdeği ve Tantal Karbür kaplamasıyla TaC Kaplamalı Gofret Süseptör, tutarlı ve düzgün ısı dağılımı sağlayarak MOCVD işlemi sırasında büyütülen yarı iletken katmanların tekrarlanabilirliğine ve kalitesine katkıda bulunur. Bu gelişmiş malzeme kombinasyonu, onu yarı iletken üretimi için güvenilir ve dayanıklı bir çözüm haline getirerek modern elektronik cihaz üretiminin katı gereksinimlerini karşılıyor.