CVD SiC kaplı üst zemin halkaları

CVD SiC-kaplanmış üst zemin halkaları tipik olarak plazma aşındırma ekipmanındaki reaksiyon odasının üst bölgesine, levha elektrostatik aynasını çevreleyecek şekilde monte edilir. CVD SiC kaplı üst zemin halkaları, cihaz bileşenlerini plazma saldırısından korumak için fiziksel bariyer görevi görebilen, dahili elektrik alanını ayarlayan ve düzgün dağlama sonuçları sağlamak için plazma dağıtım aralığını sınırlayan aşındırma sisteminin tamamı için hayati öneme sahiptir.

Plazma aşındırma, yarı iletken üretiminde yaygın olarak kullanılan, belirli alanları seçici olarak kaldırmak ve böylece hassas yapıların işlenmesini sağlamak için plazma ile yarı iletken malzemelerin yüzeyi arasındaki fiziksel ve kimyasal etkileşimlerden yararlanarak çalışan bir kuru aşındırma teknolojisidir. Plazma aşındırma işleminin zorlu ortamında, yüksek enerjili plazma agresif korozyona neden olur ve reaksiyon odası içindeki bileşenlere saldırır. Güvenilir ve verimli çalışmayı sağlamak için hazne bileşenlerinin mükemmel korozyon direncine, mekanik özelliklere ve düşük kirlenme özelliklerine sahip olması gerekir. Semicorex CVD SiC kaplı üst zemin halkaları bu zorlu, yüksek korozyonlu çalışma ortamlarına uyum sağlamak için mükemmel şekilde tasarlanmıştır.

Güvenilir CVD SiC Kaplama

Zorlu aşındırma koşullarında daha iyi performans göstermek için Semicorex CVD SiC kaplı üst zemin halkaları, performanslarını ve dayanıklılıklarını daha da artıran yüksek performanslı CVD SiC kaplamayla kaplanmıştır.

1. Ultra yüksek saflık

The SiC kaplamaCVD işlemiyle üretilen, ultra yüksek saflıkta (%99,9999'u aşan saflık) mükemmel yoğunlaştırma özelliğine sahiptir; bu, Semicorex CVD SiC kaplı üst zemin halkalarını aşındırma uygulamalarında yüksek enerjili plazma saldırısından önleyebilir, böylece matrislerdeki yabancı madde parçacıklarının neden olduğu kirlenmeyi önleyebilir.

2. Geliştirilmiş korozyon direnci

CVD işlemiyle üretilen SiC kaplama, gelişmiş korozyon direnci sunarak Semicorex CVD SiC kaplı üst zemin halkalarının plazmadan (özellikle halojenler ve flor gibi aşındırıcı gazlar) kaynaklanan zorlu korozyona etkili bir şekilde dayanmasını sağlar.

3. Geliştirilmiş mekanik özellikler

Semicorex CVD SiC kaplı üst zemin halkaları, CVD SiC kaplamanın geliştirilmiş sertliği ve aşınma direnci sayesinde, uzun süreli hizmet sırasında deformasyon veya kırılma olmadan yoğun plazma bombardımanına, mekanik gerilime ve sık kullanıma dayanabilir.

Yüksek Standartta işleme ve kalite kontrolü

Zorlu yarı iletken aşındırma koşullarına mükemmel şekilde uyum sağlamak için Semicorex CVD SiC kaplı üst zemin halkaları hassas işleme ve sıkı denetimden geçer.

Yüzey işleme: Parlatma hassasiyeti Ra < 0,1 µm'dir; ince öğütme hassasiyeti Ra > 0,1 µm'dir

İşleme hassasiyeti ≤ 0,03 mm dahilinde kontrol edilir

Kalite denetimi:

Semicorex katı CVD SiC halkaları, ICP-MS (endüktif eşleşmiş plazma kütle spektrometresi) analizine tabidir. Semicorex katı CVD SiC halkaları, ürünlerin talaş, çizik, çatlak, leke ve diğer kusurlardan arınmış olduğunu garanti edecek şekilde boyutsal ölçüme, direnç testine ve görsel incelemeye tabi tutulur.