Yarı İletken İşlemi için Gofret Teknesi

Semicorex, hem dikey / kolon hem de yatay konfigürasyonlar için gofret botları, kaideler ve özel gofret taşıyıcıları sağlar. Uzun yıllardır silisyum karbür kaplama filmi üreticisi ve tedarikçisiyiz. Yarı İletken İşleme için Gofret Teknemiz iyi bir fiyat avantajına sahiptir ve Avrupa ve Amerika pazarlarının çoğunu kapsamaktadır. Çin'deki uzun vadeli ortağınız olmayı dört gözle bekliyoruz.

Talep Gönder

Ürün Açıklaması

Semicorex SiC Wafer Boat for Semiconductor Process, yarı iletken üretiminde gofret taşıma ve koruma için nihai çözüm. Yarı iletken işleme için gofret teknemiz, korozyona karşı iyi bir dirence ve yüksek sıcaklıklara ve termal şoka karşı mükemmel bir dirence sahip olan yüksek kaliteli silisyum karbürden yapılmıştır. Gelişmiş seramikler, yüksek kapasiteli gofret taşıyıcıları için parçacıkları ve kirleticileri azaltırken mükemmel termal direnç ve plazma dayanıklılığı sağlar.

Yarı İletken İşlemi İçin Gofret Teknesinin Parametreleri

Teknik Özellikler
dizin	Birim	Değer
Malzeme Adı		Reaksiyon Sinterlenmiş Silisyum Karbür	Basınçsız Sinterlenmiş Silisyum Karbür	Yeniden Kristalize Silisyum Karbür
Kompozisyon		RBSiC	SSiC	R-SiC
Kütle yoğunluğu	g/cm3	3	3,15 ± 0,03	2.60-2.70
Bükülme mukavemeti	MPa (kpsi)	338(49)	380(55)	80-90 (20°C)90-100(1400°C)
Basınç Dayanımı	MPa (kpsi)	1120(158)	3970(560)	> 600
Sertlik	Knoop	2700	2800	/
Azim kırma	MPa m1/2	4.5	4	/
Termal iletkenlik	W/m.k	95	120	23
Termal Genleşme katsayısı	10^-6.1/°C	5	4	4.7
Özısı	Joule/g 0k	0.8	0.67	/
Havadaki maksimum sıcaklık	℃	1200	1500	1600
Elastik modülü	ortalama	360	410	240

Yarı İletken Proses İçin Gofret Teknesinin Özellikleri

Üstün ısı direnci ve termal homojenlik
Pürüzsüz bir yüzey için ince SiC kristal kaplama
Kimyasal temizlemeye karşı yüksek dayanıklılık
Malzeme çatlama ve delaminasyon oluşmayacak şekilde tasarlanmıştır.