6 "gofret tutucular

Semicorex 6 "gofret tutucular, yüksek sıcaklık, kimyasal olarak reaktif ortamlarda kullanılmak üzere tasarlanmış SIC (silikon karbür) epitaksiyal büyüme süreçlerinin zorlu gereksinimlerini karşılamak için özel olarak tasarlanmıştır, bu sahipler üstün mekanik stabilite, termal homojenlik ve süreç güvenilirliği sağlar, bunlara ileri SIC epitaks uygulamaları için gerekli bir bileşen sağlar.

Gofret üretim işlemi sırasında, bazı gofret substratlarının cihaz üretimini kolaylaştırmak için epitaksiyal katmanlar daha fazla inşa etmeleri gerekir. Tipik örnekler, silikon substratlar üzerinde GAAS epitaksiyal katmanlarının hazırlanmasını gerektiren LED ışık yayan cihazlar; SIC epitaksiyal katmanları, yüksek voltaj, yüksek akım ve diğer güç uygulamaları için SBD'ler ve MOSFET'ler gibi cihazlar oluşturmak için iletken SIC substratları üzerinde büyütülür; GAN epitaksiyal katmanları, HEMT ve iletişim ve diğer radyo frekans uygulamaları için diğer cihazları daha da inşa etmek için yarı yalıtımlı SIC substratları üzerine oluşturulur. Bu işlem CVD ekipmanından ayrılamaz.

CVD ekipmanında, substrat doğrudan metale veya sadece epitaksiyal biriktirme için bir tabana yerleştirilemez, çünkü gaz akışı yönü (yatay, dikey), sıcaklık, basınç, fiksasyon ve düşen kirleticiler gibi çeşitli faktörleri içerir. Bu nedenle, bir tabana ihtiyaç vardır ve daha sonra substrat bir tepsiye yerleştirilir ve daha sonra CVD teknolojisi kullanılarak substrat üzerinde epitaksiyal biriktirme gerçekleştirilir. Bu taban birSIC kaplıGrafit tabanı (6 "gofret tutucuları).

6 "gofret tutucuları, gofret yüzeyinde düzgün ısı dağılımı sağlayarak mükemmel termal yönetim için optimize edilmiştir. Bu, SIC epitaksiyal büyümesi sırasında gelişmiş tabaka tekdüzeliği, azaltılmış kusur yoğunluğu ve artmış genel verimle sonuçlanır. Tasarım, kesin gofret klempini ve hizalamasını barındırır, parçacık üretimini ve mekanik stresi en aza indirir.

İster araştırma ve geliştirme ister SIC tabanlı güç cihazlarının tam ölçekli üretimi yapıyor olun, 6 "gofret sahiplerimiz, proses verimliliğinizi en üst düzeye çıkarmak için gereken sağlam performans ve güvenilirliği sağlar. Ayrıca, sahip tasarımını benzersiz sistem parametrelerinize uyarlamak için özelleştirme hizmetleri sunar ve epitaksiyal gofret üretiminde en yüksek standartlara ulaşmanıza yardımcı olur.