ICP Silikon Karbon Kaplı Grafit

Semicorex'in ICP Silikon Karbon Kaplamalı Grafit'i zorlu levha işleme ve ince film biriktirme işlemleri için ideal seçimdir. Ürünümüz üstün ısı ve korozyon direncine, hatta termal tekdüzeliğe ve optimum laminer gaz akış modellerine sahiptir.

Talep Gönder

Ürün Açıklaması

Epitaksiyel büyütme işleminde kullanılan gofret taşıyıcılarının yüksek sıcaklıklara ve sert kimyasal temizliğe dayanıklı olması gerekir. Semicorex ICP Silikon Karbon Kaplamalı Grafit tutucular, bu zorlu epitaksi ekipmanı uygulamaları için özel olarak tasarlanmıştır. Ürünümüz, yüksek sıcaklıklara ve sert kimyasal temizlemeye dayanacak şekilde tasarlanmış olup, uzun ömür ve en iyi sonuçları garanti eder.
ICP Silikon Karbon Kaplamalı Grafitimiz, termal profilin düzgünlüğünü sağlayarak en iyi laminer gaz akış modelini elde etmek üzere tasarlanmıştır. Bu, levha çipinde yüksek kaliteli epitaksiyel büyüme sağlayarak herhangi bir kirlenmenin veya yabancı maddelerin yayılmasının önlenmesine yardımcı olur.
ICP Silikon Karbon Kaplamalı Grafitimiz hakkında daha fazla bilgi edinmek için bugün bizimle iletişime geçin.

ICP Silikon Karbon Kaplı Grafitin Parametreleri

CVD-SIC Kaplamanın Ana Özellikleri
SiC-CVD Özellikleri
Kristal Yapısı	FCC β fazı
Yoğunluk	g/cm³	3.21
Sertlik	Vickers sertliği	2500
Tane Boyutu	μm	2~10
Kimyasal Saflık	%	99.99995
Isı Kapasitesi	J kg-1 K-1	640
Süblimleşme Sıcaklığı	℃	2700
Feleksural Dayanım	MPa (RT 4 nokta)	415
Young Modülü	Gpa (4pt viraj, 1300°C)	430
Termal Genleşme (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Isı iletkenliği	(W/mK)	300