Gofret Transferi için PSS Taşıma Taşıyıcısı

Semicorex'in Gofret Transferi için PSS Taşıma Taşıyıcısı, en zorlu epitaksi ekipmanı uygulamaları için tasarlanmıştır. Ultra saf grafit taşıyıcımız zorlu ortamlara, yüksek sıcaklıklara ve sert kimyasal temizlemeye dayanabilir. SiC kaplı taşıyıcı, mükemmel ısı dağıtım özelliklerine, yüksek termal iletkenliğe sahiptir ve uygun maliyetlidir. Ürünlerimiz birçok Avrupa ve Amerika pazarında yaygın olarak kullanılmaktadır ve Çin'deki uzun vadeli ortağınız olmayı dört gözle bekliyoruz.

Talep Gönder

Ürün Açıklaması

Semicorex'ten Gofret Transferi için PSS Taşıma Taşıyıcısı, epitaksiyel büyüme ve gofret taşıma işlemleri için yüksek sıcaklıkta ve sert kimyasal temizleme gereksinimlerini karşılamak üzere tasarlanmıştır. Ultra saf grafit taşıyıcımız, MOCVD, epitaksi suseptörleri, gözleme veya uydu platformları gibi ince film biriktirme aşamaları ve aşındırma gibi gofret işleme işlemleri için idealdir. SiC kaplı taşıyıcı, mükemmel ısı dağıtım özelliklerine, yüksek termal iletkenliğe sahiptir ve uygun maliyetlidir.

Gofret Transferi için PSS Taşıma Taşıyıcımız hakkında daha fazla bilgi edinmek için bugün bize ulaşın.

Gofret Transferi için PSS Taşıma Taşıyıcısının Parametreleri

CVD-SIC Kaplamanın Ana Özellikleri
SiC-CVD Özellikleri
Kristal yapı	FCC Î² fazı
Yoğunluk	g/cm³	3.21
Sertlik	Vickers sertliği	2500
Tane büyüklüğü	ım¼m	2~10
Kimyasal Saflık	%	99.99995
Isı kapasitesi	J·kg-1 ·K-1	640
Süblimleşme Sıcaklığı	℃	2700
Feleksural Mukavemet	MPa (RT 4 noktalı)	415
Youngâ s Modülü	Gpa (4pt viraj, 1300â)	430
Termal Genleşme (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Termal iletkenlik	(W/mK)	300