Gofret Transferi için PSS Taşıma Taşıyıcısı

Semicorex'in Gofret Transferi için PSS Taşıma Taşıyıcısı, en zorlu epitaksi ekipmanı uygulamaları için tasarlanmıştır. Ultra saf grafit taşıyıcımız zorlu ortamlara, yüksek sıcaklıklara ve sert kimyasal temizlemeye dayanabilir. SiC kaplı taşıyıcı mükemmel ısı dağıtım özelliklerine, yüksek ısı iletkenliğine sahiptir ve uygun maliyetlidir. Ürünlerimiz birçok Avrupa ve Amerika pazarında yaygın olarak kullanılmaktadır ve Çin'deki uzun vadeli ortağınız olmayı sabırsızlıkla bekliyoruz.

Talep Gönder

Ürün Açıklaması

Semicorex'in Gofret Transferi için PSS Taşıma Taşıyıcısı, epitaksiyel büyüme ve gofret işleme süreçleri için yüksek sıcaklık ve sert kimyasal temizleme gereksinimlerini karşılamak üzere tasarlanmıştır. Ultra saf grafit taşıyıcımız, MOCVD, epitaksi tutucular, gözleme veya uydu platformları gibi ince film biriktirme aşamaları ve aşındırma gibi levha işleme işlemleri için idealdir. SiC kaplı taşıyıcı mükemmel ısı dağıtım özelliklerine, yüksek ısı iletkenliğine sahiptir ve uygun maliyetlidir.

Gofret Transferi için PSS Taşıma Taşıyıcımız hakkında daha fazla bilgi edinmek için bugün bizimle iletişime geçin.

Gofret Transferi için PSS Taşıma Taşıyıcısının Parametreleri

CVD-SIC Kaplamanın Ana Özellikleri
SiC-CVD Özellikleri
Kristal Yapısı	FCC β fazı
Yoğunluk	g/cm³	3.21
Sertlik	Vickers sertliği	2500
Tane Boyutu	μm	2~10
Kimyasal Saflık	%	99.99995
Isı Kapasitesi	J kg-1 K-1	640
Süblimleşme Sıcaklığı	℃	2700
Feleksural Dayanım	MPa (RT 4 nokta)	415
Young Modülü	Gpa (4pt viraj, 1300°C)	430
Termal Genleşme (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Isı iletkenliği	(W/mK)	300