RTP Halkası

Semicorex RTP Halkası, Hızlı Termal İşleme (RTP) sistemlerinde yüksek performanslı uygulamalar için tasarlanmış, SiC kaplı bir grafit halkadır. Bu ürün, özellikle tavlama, katkılama ve oksidasyon gibi işlemler için hassas ve eşit ısıtmanın gerekli olduğu RTP aşamasında yarı iletken üretimi için çok önemlidir. RTP Ring'in tasarımı üstün termal iletkenlik, kimyasal direnç ve mekanik dayanıklılık sağlayarak onu yarı iletken cihaz üretiminde yüksek sıcaklık işlemleri için güvenilir bir çözüm haline getiriyor.

Temel Özellikler:

Gelişmiş Dayanıklılık için SiC Kaplama

RTP Halkası, olağanüstü termal stabilitesi ve kimyasal direnciyle bilinen bir malzeme olan silisyum karbür (SiC) tabakasıyla kaplanmıştır. Bu kaplama, halkaya gelişmiş dayanıklılık sağlayarak RTP işlemlerinin zorlu koşullarına dayanabilmesini sağlar. SiC katmanı aynı zamanda tipik olarak yüksek sıcaklığa maruz kalmanın neden olduğu aşınma ve yıpranmayı da önemli ölçüde azaltarak, kaplanmamış grafit bileşenlere kıyasla daha uzun bir hizmet ömrü sağlar.

Yüksek Isı İletkenliği

Grafit mükemmel bir ısı iletkenidir ve SiC kaplamayla birleştirildiğinde RTP Halkası olağanüstü termal iletkenlik sağlar. Bu, hızlı ısıl işlem sırasında hassas sıcaklık kontrolü için hayati önem taşıyan eşit ısı dağılımını mümkün kılar. Düzgün ısıtma, yarı iletken levhaların kalitesini ve tutarlılığını geliştirerek son cihazlarda daha iyi performans sağlar.

Kimyasal ve Termal Direnç

SiC kaplama, grafit çekirdeği reaktif gazlardan ve RTP sırasında yaygın olarak karşılaşılan oksijen, nitrojen ve çeşitli katkı maddeleri gibi sert kimyasallardan korur. Bu koruma, halkanın korozyonunu ve bozulmasını önleyerek zorlu kimyasal ortamlarda bile yapısal bütünlüğünü korumasına olanak tanır. Ayrıca SiC kaplama, halkanın RTP uygulamalarında tipik olarak gerekli olan yüksek sıcaklıklara bozulma olmadan dayanabilmesini sağlar ve hem oksidasyona karşı direnç hem de mükemmel yüksek sıcaklık dayanımı sunar.

Özelleştirme Seçenekleri

Semicorex, RTP Ring'i belirli proses gereksinimlerine uyacak şekilde çeşitli özelleştirme seçenekleriyle sunar. Farklı RTP oda konfigürasyonlarına ve levha işleme sistemlerine uyum sağlamak için özel boyutlar ve şekiller mevcuttur. Şirket ayrıca SiC kaplamanın kalınlığını müşteri ihtiyaçlarına göre ayarlayarak belirli uygulamalar için optimum performans ve uzun ömür sağlayabiliyor.

Geliştirilmiş Süreç Verimliliği

RTP Halkası, yarı iletken plakalar arasında hassas ve eşit ısı dağılımı sağlayarak proses verimliliğini artırır. Geliştirilmiş termal kontrol, termal değişimlerin azaltılmasına ve levha işlemenin termal işlem aşamaları sırasındaki kusurların en aza indirilmesine yardımcı olur. Bu, daha iyi verim oranlarına ve daha yüksek kalitede nihai ürünlere yol açarak üretim maliyetlerinin düşmesine ve üretim miktarının artmasına katkıda bulunur.

Düşük Kontaminasyon Riski

SiC kaplı grafit halka, yarı iletken işleme sırasında kirlenme risklerinin en aza indirilmesine yardımcı olur. Diğer malzemelerin aksine SiC, termal işlem sırasında hassas yarı iletken levhalara potansiyel olarak müdahale edebilecek partikül madde salmaz. Bu özellik özellikle kontaminasyon kontrolünün son derece önemli olduğu temiz oda ortamlarında kritik öneme sahiptir.

RTP'deki uygulamalar:

RTP Halkası öncelikle, hassas malzeme değişiklikleri elde etmek için levhaların çok kısa bir süre içinde yüksek sıcaklıklara ısıtılmasını içeren yarı iletken üretiminin Hızlı Termal İşleme aşamasında kullanılır. Bu aşama aşağıdaki gibi süreçler için çok önemlidir:

• Tavlama:RTP, kristal hasarını onarmak ve katkı maddelerini aktive etmek için katkılı levhaların tavlanması için yaygın olarak kullanılır. SiC kaplı grafit RTP Halkası, tutarlı tavlama sonuçları elde etmek için kritik olan eşit ısı dağılımını sağlar.
• Oksidasyon ve Difüzyon:Oksidasyon veya difüzyon süreçleri sırasında, RTP Halkasının yüksek termal iletkenliği ve kimyasal direnci, oksit katmanlarının ve katkı maddesi difüzyonunun eşit şekilde büyümesini kolaylaştırmaya yardımcı olarak hassas katman kontrolü ve levha kalitesi sağlar.
• Doping:Katkılama işlemlerinde RTP Halkası, yarı iletken malzemede istenen katkılama profillerinin elde edilmesi için gerekli olan gerekli sıcaklık stabilitesinin korunmasında önemli bir rol oynar.
• Dopantların Aktivasyonu:RTP sistemlerinin hızlı sıcaklık artışı ve soğutma kapasitesi, SiC kaplı grafit halkanın termal verimliliği ile birleştiğinde, yarı iletken malzemelerin elektriksel özelliklerini uyarlamak için hayati önem taşıyan hassas katkı aktivasyonunu mümkün kılar.

Diğer Malzemelere Göre Avantajları:

Geleneksel grafit halkalar veya diğer kaplamalı bileşenlerle karşılaştırıldığında SiC kaplı grafit RTP Halkası çeşitli avantajlar sunar. SiC kaplaması yalnızca bileşenin çalışma ömrünü uzatmakla kalmaz, aynı zamanda ısı direnci ve termal iletkenlik açısından üstün performans sağlar. SiC kaplaması olmayan grafit bazlı bileşenler, zorlu termal döngülerde daha hızlı bozulma yaşayabilir, bu da daha sık değiştirmeye ve potansiyel olarak daha yüksek işletme maliyetlerine yol açabilir. Ek olarak SiC kaplama, periyodik bakım ihtiyacını azaltarak yarı iletken işlemenin genel verimliliğini artırır.

Ayrıca SiC kaplama, kaplanmamış grafitte yaygın bir sorun olan yüksek sıcaklıkta işleme sırasında kirletici maddelerin salınmasını önler. Bu, yarı iletken imalatının yüksek hassasiyetli talepleri için gerekli olan daha temiz bir proses ortamı sağlar.

Semicorex RTP Halka – SiC Kaplamalı Grafit Halka, Hızlı Termal İşleme sistemlerinde kullanılmak üzere tasarlanmış yüksek performanslı bir bileşendir. Mükemmel termal iletkenliği, yüksek termal ve kimyasal direnci ve özelleştirilebilir özellikleriyle zorlu yarı iletken işlemler için ideal bir çözümdür. Hassas sıcaklık kontrolü sağlama ve bileşen ömrünü uzatma yeteneği, proses verimliliğini önemli ölçüde artırır, kirlenme risklerini azaltır ve tutarlı, yüksek kaliteli yarı iletken üretimi sağlar. Üreticiler, Semicorex SiC kaplı grafit RTP Halkasını seçerek RTP süreçlerinde üstün sonuçlar elde edebilir ve üretimlerinin hem verimliliğini hem de kalitesini artırabilir.